振動環境下での測定に対応した 干渉光学技術 | タカノ株式会社
New Development

振動環境下での測定に対応した
干渉光学技術

タカノ株式会社が開発した、干渉技術と分光解析技術を組み合わせた新しい形の3次元解析。インライン運用を可能にする高速測定と「VC-A」基準での測定を両立。

白色干渉計とイメージ分光器を組み合わせた光学系システム図

分光解析による3次元解析

白色干渉計とイメージ分光器を併用し、ライン上の干渉波形を一括解析。ワークを動かしながらデータをつなぎ合わせることで、圧倒的な高速測定を実現します。

分光解析の原理図

Measurement

  • 視野 2.56 x 2.56mm
  • 時間 約2秒
  • 画素 2560 x 2560
  • 空間分解能 □1um
  • 高さレンジ 30um
  • 高さ分解能 1nm

耐振動性能に優れる測定アルゴリズム

1000 line/sec 以上のスキャンレートを実現。独自のアルゴリズムにより「振動や傾斜」の影響を除去し、除振台なしで「VC-A」環境下での高精度解析を可能にします。

高い防振性能の図
振動補正解析イメージ

nmオーダーの精度

波長解析を用いた光路差計算を基盤とし、10nm程度の微小段差を判別。広い測定レンジ（数10μm）下でも、触針段差計と同等の安定した精度を実現します。

エッチング校正サンプル
Time AFM VTSI Diff
10s22.24nm20.2nm2.0nm
20s38.19nm37.6nm0.6nm
30s50.50nm50.1nm0.4nm
40s64.95nm66.2nm-1.3nm
50s86.38nm86.2nm0.2nm
60s97.96nm101.8nm-3.8nm
90s140.97nm143.4nm-2.4nm
120s194.73nm195.0nm-0.3nm
180s294.74nm294.4nm0.3nm
240s400.17nm403.2nm-3.0nm
300s469.96nm476.8nm-6.8nm
480s802.87nm800.5nm2.4nm
600s1026.89nm1024.8nm2.1nm
相関係数 : 0.99997

TEGサンプルによる 繰り返し再現性評価

バンプ形状サンプル画像

サンプル外観

25ポイント x 20回 繰り返し再現性評価結果

3σ 平均値 14nm
3σ Max 25nm
3σ Min 8nm

25ポイント毎の高さ情報

AVE 8.966um
MAX 9.014um
MIN 8.913um

解析サンプルイメージ

※ 画像をクリックすると拡大表示されます

マスクブランクス
マスクブランクス 20um L/S

Mask Blanks

光学用アクリル板
光学用アクリル板

Acrylic Plate

段差校正サンプル
3um 段差校正サンプル

Step Calibration